從環(huán)境影響因素比較，水基金屬清洗劑比溶劑型好。兩性表面活性劑對金屬清洗有利，其在高pH值下的穩(wěn)定性很有用，不過其他表面活性劑通常也能滿足要求，但陽離子型表面活性劑對電鍍不利。潔凈度要求相對較低的場合，清洗劑配方相對也比較簡單，如下面給出的去鱗和去銹的金屬清洗劑配方：
表8—5 去鱗和去銹配方
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酸性配方 |
堿性配方 | ||
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成分 |
含量／％ |
成分 |
含量／％ |
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磷酸(75％) 檸檬酸 NPO(9) 水 |
50 10 3 余量 |
氫氧化鈉 葡糖酸鈉 SLAS |
60 39 l |
目前金屬制造業(yè)中大部分金屬清洗操作都采用水基配方，其中通常含有能除去金屬表面油污的堿，如氫氧化鈉、硅酸鈉、正磷酸鈉等，加入表面活性劑有助于提高去垢速度。由于兩性表面活性劑在強堿性中穩(wěn)定，且具有高的堿溶性，因此在堿性水基清洗劑中可以使用兩性表面活性劑。當兩性表面活性劑的分子中含有多個陰離子基團時，就更有利于在強堿中應(yīng)用。兩性表面活性劑在這種場合下具有的強親水排斥作用，能夠顯示出水溶助長功能，滿足配方在這方面的需要，而且還有利于提高粒性污垢與基質(zhì)之間的排斥作用。此外，額外的陰離子基團能夠增加在堿中的溶解度，可以使去污作用增效。表8—6給出含烷基亞氨基二丙酸鹽(AIDP)和烷基兩性羧基甘酸鹽(AACG)的配方，具有高效、低泡、快速潤濕等特點(Miranol1967)：
表8—6 含低泡兩性表面活性劑的堿性配方
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成分 |
含量/％ | ||||
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1 |
2 |
3 |
4 |
5 | |
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辛胺二丙（OIDP） 五水硅酸鈉 焦磷酸鉀 焦磷酸鈉 水 |
1 9 20 — 余量 |
1 9 15 10 余量 |
1 9 17 8 余量 |
2 9 20 — 余量 |
3 9 20 — 余量 |
CA 2146680報導(dǎo)的配方為無金屬離子的水基型清洗劑，含氫氧化銨、季銨堿和兩性表面活性劑，有時也含金屬絡(luò)合劑和丙二醇醚溶劑，可用于清洗有金屬污染的片基表面并使之光滑。
兩性表面活性劑用于金屬清洗劑的其它報導(dǎo)有：兩性咪唑啉用于金屬洗滌(LomaxE．G．1971)；兩性咪唑啉用于清洗鋁、鎂和鋅(Mankowich A．1958②)；兩性咪唑啉用于堿性電解質(zhì)清潔劑中(US3666667)；兩性咪唑啉用于鋁光亮劑中(US 3663327)。
