采用KBH4 在液相中化學(xué)還原CuSO4 ,并加入KOH、絡(luò)合劑EDTA 和分散劑PVP ,制得了納米級(jí)的純凈的銅粉,通過調(diào)整反應(yīng)物的濃度,可以消除Cu2O 等雜質(zhì). 研究了分散劑PVP 對(duì)銅粉粒度的影響,結(jié)果表明分散劑PVP 有助于粉末的分散.
發(fā)布日期：2008-08-28 瀏覽次數(shù)：387
采用KBH4 在液相中化學(xué)還原CuSO4 ,并加入KOH、絡(luò)合劑EDTA 和分散劑PVP ,制得了納米級(jí)的純凈的銅粉,通過調(diào)整反應(yīng)物的濃度,可以消除Cu2O 等雜質(zhì). 研究了分散劑PVP 對(duì)銅粉粒度的影響,結(jié)果表明分散劑PVP 有助于粉末的分散.
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