【發(fā) 明 者】Andreas Klipp,Vijay Immanuel Raman, Shyam Sundar Venkataraman, Raimund Mellies, Mingjie ZHONG
【申 請(qǐng) 人】德國(guó)巴斯夫公司（BasfCorporation ）
【申 請(qǐng) 號(hào)】EP20120760859
【申 請(qǐng) 日】2012-02-28
【公 開 號(hào)】EP2688688 A1
【公 開 日】2014-01-29
【摘 要】本專利提供一種水溶性、無氮的清洗組合物以及其制備方法和用途。該組合物的PH值為5~8，包含（A）一種兩親性非離子型、水溶性或水分散性表面活性劑，和（B）金屬螯合劑，選自至少含有3個(gè)羧酸基團(tuán)的多元羧酸。該組合物可用于清除半導(dǎo)體基片上的殘留物和污染物。
